某半导制作制造业企业因晶圆的洗涤生产工序产生含氨废液，出水量200吨/天。废液中除氧化还原电位外还有氟化物和氢化物发生器天价属，操作难易度大。本县尾气排放原则原则条件氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废液营养成分及因素 晶圆的洗涤焦化废水（注意由来）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺焦化废水：含微量分析铜、镍等血本属，pH值起伏大 CMP碾磨焦化废水：含硅颗粒肥料及氟化物 解决新工艺流程 所采用"检查是否石雕文化沉淀+膜溶合+折点氯化"组和工艺设计： 预治理 ：添加CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 超滤膜软件系统 ：我们要除0.01μm及以上颗料物 反融于浓缩液 ：将氯离子果汁至1000mg/L不低于 折点氯化 ：精密抑制氯污泥脱水量，将高锰酸盐指数流量转化为惰性气体 阴离子更换 ：的保障巨资属标准 最后郊果 高锰酸盐指数稳定可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属量高于检测工具限 水循环率达75% 活性污泥产生了量缩短40%